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磨具磨料展厅 |
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| 二氧化硅抛光液
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| 产品型号：二氧化硅抛光液 |
我公司系列硅溶胶产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度（10~150 nm）的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
产品的特点：
1. 高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的（可以生产150 nm）
2. 粒度可控，根据不同需要，可生产不同粒度的产品（10-150 nm）
3. 高纯度（Cu2+含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污
4. 高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工
抛光液基本性质
碱性型号
pH：9.8±0.5 SOQ-2 SOQ-4 SOQ-6 SOQ-8 SOQ-10 SOQ-12
酸性型号
pH：2.8±0.5 ASOQ-2 ASOQ-4 ASOQ-6 ASOQ-8 ASOQ-10 ASOQ-12
粒径(nm) 10~30 30~50 50~70 70~90 90~110 110~130
外观 乳白色或半透明液体
密度(g/ml) 1. 15±0.05
抛光液组成
成份 含量（w%）
SiO2 15～30
Na2O ≤0.3
重金属杂质 ≤50 ppb
抛光参数（参考值）
抛光压力 150～250 g/cm2
抛光温度 32~40 ℃
稀 释 率 <1:1~20
抛光时间 3~6 min
注：本抛光参数只适用于硅片的抛光。
包 装：500 ml/瓶，25 Kg/桶，或200 Kg/桶。
储 存：储存温度0~35 ℃，在0 ℃以下因产生不可再分散凝胶而失效，温度高于35 ℃条件下储存会促使微生物生长和加速凝胶化，缩短储藏期。上述条件下碱性抛光液可存放两年左右，酸性抛光液可存放半年左右。
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| 参考价格：120 |
| 公司其它产品：
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| 东莞市创力研磨科技有限公司 |
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